
Технические характеристики оборудования Высокая напряженность магнитного поля: магнитная индукция на поверхности валка может достигать более 15000 Гаусс. Сухое обогащение позволяет экономить водные ресурсы. Благодаря бесступенчатому регулированию скорости вращения валков и настройке раздел...
Высокая напряженность магнитного поля: магнитная индукция на поверхности валка может достигать более 15000 Гаусс. Сухое обогащение позволяет экономить водные ресурсы. Благодаря бесступенчатому регулированию скорости вращения валков и настройке разделительных перегородок можно произвольно регулировать выход и качество концентрата и хвостов.